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Tanner EDA

更新日期:2018-01-02 10:07:24  浏览次数:5146次  作者:admin  【打印此页】  【关闭

       Tanner是Mentor Graphics公司面向数模混合电路、模拟电路和MEMS设计等研发的集成电路设计工具。其早在1988年就已经面世,至今已有28年历史。Tanner工具功能强大,从电路设计、版图设计到仿真验证一应俱全;且易学易用,目前在国内外有很高的知名度,当前用户约有4000多个,分布在全球64个国家,如图1所示。奥



成功案例



图1   Tanner成功案例


数模混合设计流程

图2 Tanner数模混合设计流程图




Tanner数模混合设计流程是针对模拟/数模混合芯片全定制设计的流程,如图2所示。该流程高度集成了IC设计从前端到后端的工具模块,详见表1,具体包括电路设计(S-edit,混合信号仿真(T-spice等),波形编辑(W-edit),版图设计(L-edit)以及与目前业界Foundry厂兼容的物理验证(LVS DRC)等。肯

Tanner可与当前流行的设计工具与相应的网表格式相互兼容,降低了因支持不同的Foundry导致的风险,包含多Foundry认证的PDK。该工具直观性强,使用方便并有自己独立的运行平台。同时,Tanner支持WindowsLinux双重操作环境。思


特点及优势

完整的模拟/数模混合IC全定制设计组件

OpenAccess,LEF/DEF,LibertySDF数据格式支持

支持多重抽象级网表仿真:行为级、模块级、门级

调试和验证支持System Verilog, Verilog, Verilog-AMS, Verilog-AVHDL等语言

提供内建的库导航器,有效跨越自顶向下和自底向上的层次化设计查看单元视图

自顶向下的混合信号仿真

已验证的,与综合兼容的DFT支持

高速时序分析

 全角度版图编辑

 实时DRC检查,DRCLVS验证与Calibre工具兼容

使用SDL加速版图设计,可进行自动布局布线,支持HSPICE, PSPICE, VerilogCDL等格式数据导入

支持参数化cell,称为T-cell,可用于可编程接口操作(UPI),创建自动化宏

HiPer DevGen可实现参数化器件生成版图

支持多Foundry工艺

提供多语言菜单(英语,日语,简体、繁体中文,德语,意大利语和俄语等)


                                                  1  Tanner 数模混合流程功能模块

Tanner AMS IC Design Flow

电路图设计

?

模拟版图加速

?

波形编辑器

?

DRCLVS

?

Spice仿真

?

2D参数提取

?

行为级模型

?

3D参数提取

?

混合信号分析

?

Calibre接口

?

数字RTL仿真

?

标准单元布局布线

?

版图编辑器

?

综合

?

交互式或实时DRC检查

?

静态时序分析

?

节点高亮

?

DFT

?

Pad相关参数提取

?

自动测试激励产生

?

电路驱动版图(SDL

?

芯片级绕线

?


MEMS设计流程

在当前MEMS设计领域,工具集成度比以往增加了很多。为了应对市场竞争,用户需要一个已经成功证明能够加速商业项目设计周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件与相应模拟/数模混合电路设计的集成变得简单,同时也能够帮助用户改善MEMS器件的设计。因此,它能够减少培训时间,缩短设计周期。




图3  Tanner L-edit组件



Tanner MEMS设计流程的核心是L-edit,如图3所示。L-edit是一款MEMS版图编辑工具,可以进行曲线多边形和全角运算操作。相比于工程师使用的其他CAD工具,L-edit的版图规划更加清晰。用户可以快速的画出所需的图形,并方便地检查多层版图组合之间的重叠和相互关联。利用L-edit例如强大的曲线编辑、实时DRC检查、布尔运算、对象捕捉与对准等方面的优势,用户可以更有效的完成设计任务,并节约时间与成本。与此同时,在任意形状与曲率的多边形复杂运算和派生层生成操作上,L-edit的精度也可以做的非常高。这些操作包含AND,OR,XOR,Subtract,Grow Shrink等。它们允许用户根据简单的形状产生复杂的MEMS特殊结构。


特点及优势

同一环境下完整的ICMEMS设计解决方案

25年的MEMS设计经验

从版图生成3D MEMS模型

支持导入和导出GDS、OASIS、DXF、Gerber CIF 文件格式

L-Edit提供可视化连接的节点高亮,可以快速查找和定位DRCLVS问题

高度可编程的MEMS版图设计工具,如曲线多边形、多角操作等

参数化派生层产生工具,可实现特殊MEMS结构设计

完整可视化的多图层几何图形设计

 利用工具栏便捷地生成、摆放和对准图形,执行任意角度旋转、翻转、合并、咬和切片操作,指定一个参考点进行编辑操作,如对象旋转、翻转、移动,或使用基点位置进行实例放置等

针对MEMS工艺的DRC检查

支持附带边界重构的DXF数据格式导入导出

支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 进行硅光器件设计

 SoftMEMS工具选项

—高级3D分析工具:机械,热,声,电,静电,磁性和流体分析

—系统级仿真,包含ICMEMS协同仿真

—根据3D分析结果,自动生成MEMS器件行为模型



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